High power impulse magnetron sputtering coating system HiPIMS濺射涂層系統
HiPIMS-800結合了經典直流濺射鍍膜系統的所有優點和最新的HiPIMS技術的能力。該系統共配備六個濺射陰極，其中四個可以在HIPIMS或DC模式下工作。另外兩個直流陰極可以操作，例如，提供更復雜的多層涂層，提供顏色和頂層涂層，或只是增加沉積速率。這些技術在一個過程中的絕對自由組合，以非常低的生產成本提供了有限的涂層設計范圍。在純HiPIMS模式下，沉積速率為2μm/h，處理時間為4-5小時。當所有6個陰極同時工作時，可達到3μm/h。這是迄今為止1.800圓柄工具或5.000可轉位刀片涂層容量的難以置信的低生產時間。
HiPIMS-800能夠沉積所有可用的HCVAC濺射涂層和市場上幾乎所有的PVD涂層。此外，它是開發定制流程的理想機器。客戶友好用戶界面“數據視圖”和集成規劃工具“數據計劃”有助于設計單獨的涂層解決方案。您的涂層將使您的產品在市場上脫穎而出，讓用戶獲得競爭優勢。其他功能，如用戶友好的平板電腦和手機遠程控制，便于維護的組件，全自動陰極百葉窗，自動關門和快速更換涂層臺的裝置使HiPIMS-800成為生產和開發最先進的高性能涂層的最佳涂層系統。
| 主要模塊 | |
| Arc | HiPIMS |
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創新的APA蒸發器技術（先進的等離子輔助）基于陰極真空電弧，為新的層結構提供了多種開發可能性。 優勢： ●靶材使用率高，降低靶材成本 ●沉積率高 ●磁場可調節 ●靶材更換時間短 ●等離子體密度高 ●完美的涂層結合力 |
HiPIMS代表高功率脈沖磁控濺射。 優勢： ●離化率高（類似于電弧法） ●高功率密度，從 100 到1000 W/cm2 ●等離子密度非常高 ●可以通過等離子參數設置來調節層結構 ●涂層非常光滑 ●完美的涂層結合力 ●在低基材溫度下沉積致密的涂層 |
| 其他模塊 | |
| 濺射 | 氮化 |
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在濺射工藝中，通過高能離子（Ar）轟擊靶材，分離成原子進而轉化成氣相。通過結合濺射材料和其他氣體，將涂層沉積在基材上。 優勢： ●可以濺射多種材料 ●多種工藝變量可用 ●光滑的涂層 ●結合功率刻蝕工藝AEGD獲得好的涂層結合力 |
使用氮化模塊，可在同一個系統、同一個批次，在PVD和/或PACVD涂層工藝之前進行等離子氮化工藝。由此生成一個硬化層，為后續的PVD/PACVD涂層提供完美的支撐。 優勢： ●優化工具和零部件屬性 ●替代昂貴的基材 ●顯著延長壽命 ●可以應用所有PVD涂層 |
| DLC | ta-C |
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DLC就是類金剛石涂層，指一系列具有超低摩擦系數的非晶碳涂層。使用DLC模塊，可以通過使用PVD和/或PACVD工藝來生成不同的DLC涂層。標準DLC涂層包括不含金屬或含金屬的碳基涂層。 優勢： ●完美的涂層結合力 ●高耐磨性 ●低摩擦系數 ●光滑的涂層 |
ta-C 就是不含氫的四面體非晶碳，指的是一組極硬、低摩擦的非晶碳涂層。使用ta-C模塊可以生產不同的ta-C涂層。 優勢： ●適用于比DLC更高的溫度環境 ●非常高的耐磨性 ●完美的涂層結合力 ●光滑的涂層 |
