Diamond like carbon (DLC) coating equipment 類金剛石DLC涂層設備
該系列設備具備多種DLC涂層沉積技術，模塊化的涂層設備設計，可根據客產品應用需求，單獨或組合過濾陰極電弧，閉合場磁控濺射，PACVD和離子源技術模塊于DLC沉積設備，適用于多種科學研究，產品開發和批量生產的要求。技術先進，操作方便，能量消耗少，綠色環保等特點，廣泛應用于機械，電子，光學，能源，裝飾等領域。
HCVAC開發的DLC涂層，具有良好的附著性，高的硬度和耐磨性，低的摩擦系數，低的表面粗糙度，能在多種金屬與合金工模具或零件表面沉積DLC涂層。獨特的低溫涂層技術，還能適用于在塑膠等不耐高溫的材料上沉積DLC涂層。
DLC涂層具有較高的硬度、優異的減摩耐磨性能、高熱導率、低介 電常數、寬帶隙、良好的光學透過性以及優異的化學惰性和生物兼容性等，在航空航天、機械、電子、光學、裝飾外觀保護、生物醫學等領域有著廣闊的應用前景。DLC涂層適合于磨損和滑動的環境下，在沒有任何潤滑介質的條件下，可以降低摩擦損耗，可以用于汽車發動機零部件（燃油噴射系統、動力傳動系統）、軸承、滾輪、紡織機械、航空航天等眾多領域。
DLC涂層設備制備的DLC涂層（類金剛石涂層），具備質量穩定，與基體結合力好，耐磨性好，摩擦系數低，耐腐蝕性好等綜合優良性能。廣泛應用于發動機零部件，有色金屬切削刀具，有色金屬及不銹鋼等成型沖壓模具，滑動密封部件，半導體行業模具，注塑模具，紡織行業等。
針對不同的行業，并根據客戶不同的要求及材料，我們運用不同的工藝及制備方法，設計出相適應的DLC涂層設備，以滿足客戶的需要。
DLC涂層特點：
1、是一個很好的自潤滑塑料加工應用涂層；
2、涂層特別致密，不起化學作用，沉積膜是1～3μm，硬度是2000HV～2500HV；
3、具有優異的摩擦磨損性能，耐高溫350℃，并具有很高的耐粘接劑和磨粒磨損；
4、快速、可預見的脫模大大提高質量和生產率，是PECVD涂層塑料加工的首選。
| 主要模塊 | |
| Arc | HiPIMS |
|
創新的APA蒸發器技術（先進的等離子輔助）基于陰極真空電弧，為新的層結構提供了多種開發可能性。 優勢： ●靶材使用率高，降低靶材成本 ●沉積率高 ●磁場可調節 ●靶材更換時間短 ●等離子體密度高 ●完美的涂層結合力 |
HiPIMS代表高功率脈沖磁控濺射。 優勢： ●離化率高（類似于電弧法） ●高功率密度，從 100 到1000 W/cm2 ●等離子密度非常高 ●可以通過等離子參數設置來調節層結構 ●涂層非常光滑 ●完美的涂層結合力 ●在低基材溫度下沉積致密的涂層 |
| 其他模塊 | |
| 濺射 | 氮化 |
|
在濺射工藝中，通過高能離子（Ar）轟擊靶材，分離成原子進而轉化成氣相。通過結合濺射材料和其他氣體，將涂層沉積在基材上。 優勢： ●可以濺射多種材料 ●多種工藝變量可用 ●光滑的涂層 ●結合功率刻蝕工藝AEGD獲得好的涂層結合力 |
使用氮化模塊，可在同一個系統、同一個批次，在PVD和/或PACVD涂層工藝之前進行等離子氮化工藝。由此生成一個硬化層，為后續的PVD/PACVD涂層提供完美的支撐。 優勢： ●優化工具和零部件屬性 ●替代昂貴的基材 ●顯著延長壽命 ●可以應用所有PVD涂層 |
| DLC | ta-C |
|
DLC就是類金剛石涂層，指一系列具有超低摩擦系數的非晶碳涂層。使用DLC模塊，可以通過使用PVD和/或PACVD工藝來生成不同的DLC涂層。標準DLC涂層包括不含金屬或含金屬的碳基涂層。 優勢： ●完美的涂層結合力 ●高耐磨性 ●低摩擦系數 ●光滑的涂層 |
ta-C 就是不含氫的四面體非晶碳，指的是一組極硬、低摩擦的非晶碳涂層。使用ta-C模塊可以生產不同的ta-C涂層。 優勢： ●適用于比DLC更高的溫度環境 ●非常高的耐磨性 ●完美的涂層結合力 ●光滑的涂層 |
