Functional film coating equipment 功能性薄膜涂層設(shè)備
匯成在PMA I 專利技術(shù)的基礎(chǔ)上，開發(fā)出PMA II 和EFC專利技術(shù)，并成功的將PMA II 和EFC技術(shù)集成到新一代涂層系統(tǒng)上。該系統(tǒng)具有靈活的配置，可以與ARC、MS、HIPIMS等技術(shù)組合使用，為新涂層，新材料的開發(fā)提供更多的可能性，為刀具涂層、模具涂層、零部件涂層、DLC涂層、GLC涂層、ta-c涂層等提供完整的涂層方案。
廣泛應(yīng)用于科研、半導(dǎo)體、工具、刀具、模具、零部件、醫(yī)療器械、光學(xué)、新能源等行業(yè)。可鍍制AlTiN、TiAlN、AlTiXN、AlCrN、AlCrXN、TiSiN、CrN、TiN等氮化物涂層，Ta-c、類石墨、Cr+a-c、Cr+a-c:H、W+a-c、W+a-c:H等碳基，Cr+a-c:H、CrN+a-c:H等PECVD涂層。
匯成真空提供最先進(jìn)的PVD、PACVD等功能性涂層的廣泛產(chǎn)品組合技術(shù)設(shè)備，用于適應(yīng)各種加工要求和工件材料的高速鋼和硬質(zhì)合金工件。
匯成真空涂層節(jié)省了總體加工成本，因?yàn)樗鼈冊(cè)试S更高的切削速度、進(jìn)料和由于延長(zhǎng)使用壽命而減少的更換工具的時(shí)間。涂層的低摩擦性能和硬度允許減少潤(rùn)滑和冷卻，建立可預(yù)見的磨損，保證加工零件的表面質(zhì)量更好。
高性能涂層：
高性能涂層是專門設(shè)計(jì)用于對(duì)堅(jiān)韌和粗糙的工件材料進(jìn)行高速、大進(jìn)料加工的工具，工況高熱和高機(jī)械負(fù)荷，最小或低潤(rùn)滑和冷卻。
涂層價(jià)值：
匯成真空的眾多特殊用途的涂層加工在HSS和硬質(zhì)合金工件上，是切削金屬、塑料、復(fù)合材料和包括木材等其他材料的重要部件。它們提供高效率，延長(zhǎng)工件使用壽命，并降低總體成本。
| 主要模塊 | |
| Arc | HiPIMS |
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創(chuàng)新的APA蒸發(fā)器技術(shù)（先進(jìn)的等離子輔助）基于陰極真空電弧，為新的層結(jié)構(gòu)提供了多種開發(fā)可能性。 優(yōu)勢(shì)： ●靶材使用率高，降低靶材成本 ●沉積率高 ●磁場(chǎng)可調(diào)節(jié) ●靶材更換時(shí)間短 ●等離子體密度高 ●完美的涂層結(jié)合力 |
HiPIMS代表高功率脈沖磁控濺射。 優(yōu)勢(shì)： ●離化率高（類似于電弧法） ●高功率密度，從 100 到1000 W/cm2 ●等離子密度非常高 ●可以通過(guò)等離子參數(shù)設(shè)置來(lái)調(diào)節(jié)層結(jié)構(gòu) ●涂層非常光滑 ●完美的涂層結(jié)合力 ●在低基材溫度下沉積致密的涂層 |
| 其他模塊 | |
| 濺射 | 氮化 |
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在濺射工藝中，通過(guò)高能離子（Ar）轟擊靶材，分離成原子進(jìn)而轉(zhuǎn)化成氣相。通過(guò)結(jié)合濺射材料和其他氣體，將涂層沉積在基材上。 優(yōu)勢(shì)： ●可以濺射多種材料 ●多種工藝變量可用 ●光滑的涂層 ●結(jié)合功率刻蝕工藝AEGD獲得好的涂層結(jié)合力 |
使用氮化模塊，可在同一個(gè)系統(tǒng)、同一個(gè)批次，在PVD和/或PACVD涂層工藝之前進(jìn)行等離子氮化工藝。由此生成一個(gè)硬化層，為后續(xù)的PVD/PACVD涂層提供完美的支撐。 優(yōu)勢(shì)： ●優(yōu)化工具和零部件屬性 ●替代昂貴的基材 ●顯著延長(zhǎng)壽命 ●可以應(yīng)用所有PVD涂層 |
| DLC | ta-C |
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DLC就是類金剛石涂層，指一系列具有超低摩擦系數(shù)的非晶碳涂層。使用DLC模塊，可以通過(guò)使用PVD和/或PACVD工藝來(lái)生成不同的DLC涂層。標(biāo)準(zhǔn)DLC涂層包括不含金屬或含金屬的碳基涂層。 優(yōu)勢(shì)： ●完美的涂層結(jié)合力 ●高耐磨性 ●低摩擦系數(shù) ●光滑的涂層 |
ta-C 就是不含氫的四面體非晶碳，指的是一組極硬、低摩擦的非晶碳涂層。使用ta-C模塊可以生產(chǎn)不同的ta-C涂層。 優(yōu)勢(shì)： ●適用于比DLC更高的溫度環(huán)境 ●非常高的耐磨性 ●完美的涂層結(jié)合力 ●光滑的涂層 |
